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              全譜直讀光譜儀9800T

              簡要描述:

              全譜直讀光譜儀9800T是我公司引進歐洲技術生產,是目前先進的國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產品質量的理想選擇。

              更新時間:2022-05-12

              產品型號:

              廠家性質:生產廠家

              全譜直讀光譜儀9800T


              應用領域

              全譜直讀光譜儀9800T是我公司引進歐洲技術生產,是目前先進的國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產品質量的理想選擇。

              產品優勢

              1、先進的CCD全譜光譜儀制造技術(數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術)、通道不受限制 ;

              2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步,國內一家也能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商;

              3、基體范圍內通道改變、增加不需費用;

              4、升級多基體方便,無須變動增加硬件;

              5、優良的數據穩定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數據一致性;

              6、體積小、重量輕, 移動安裝方便;

              7、高集成度、高可靠性、高穩定性;

              8、節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。

              主要特點

              1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍,可根據客戶需要選擇通道元素;

              2、分析速度快捷,20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設置預燃時間及標線,使儀器用更短的時間達到更優的分析效果;

              3、光學系統采用真空恒溫光室, 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室,實現光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結果準確,重現性及長期穩定性較佳;

              4、特殊的光室結構設計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;

              5、自動光路校準,光學系統自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定;

              6、開放式的電及架設計,可以調整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

              7、工作曲線采用國際標樣,預做工作曲線,可根據需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成,自動扣除千擾;

              8、HEPS數字化固態光源,適應各種不同材料 ;

              9、固態吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩定性;

              10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;

              11、合理的氬氣氣路設計,使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;

              12、采用鎢材料電及,電及使用壽命更長,并設計了電及自吹掃功能,清潔電及更加容易;

              13、高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊 的運行狀況;

              14、儀器與計算機之間采用以太網連接,抗千擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關,使儀器具有更好的適用性;

              15、核心器件全部進口,保證了儀器優良的品質。

              技術參數

              1、光學系統

              光學結構:帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統

              光室溫度:自動控制恒溫:35℃±0.5℃

              波長范圍:160-800nm

              光柵焦距:350 mm

              光柵刻線:3600 l/mm

              Ⅰ級光譜線色散率:1.2 nm/mm

              探測器:多塊高性能線陣CCD

              平均分辨率:10pm/pixel

              2、激發臺

              氣體:沖氬式

              氬氣流量:激發時3-5L/min, 待機時:無須待機流量

              電及:鎢材噴射電及技術

              吹掃:點擊自吹掃功能

              補償:熱變形自補償設計

              分析間隙:樣品臺分析間隙:4mm

              3、激發光源

              類型:HEPS數字化固態光源

              頻率:100-1000Hz

              放電電流:1-80A

              特殊技術:放電參數優化設計

              預燃:高能預燃技術

              4、數據采集系統

              處理器:高性能ARM處理器,高速數據同步采集處理

              接口:基于DM9000A的以太數據傳輸

              5、電源與環境要求

              輸入:220VAC 50Hz

              功率:分析時(max)700W,待機狀態40W

              工作溫度:10-30℃(該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h)

              工作濕度:20-80%

              6、尺寸與重量

              尺寸:800*450*500 mm

              重量:85Kg  



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